Расчет вольтамперной характеристики солнечного элемента при врахуваннi изменения поверхностной рекомбiнацiи с приложенным напряжением
Страница: [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7]
Из этих формул видно, что большие Iкз соответствуют большим значениям IL, а для получения большим Vхх необходимые большие значения параметра n и отношение IL / IS, то есть большие высоты потенциального барьера. Общий вид ВАХ зависит также от величины n. Чем меньше n, тем в большей мере форма мировой ВАХ приближается к прямоугольной.
Для реальногоСЭ в эквивалентные схеме следуют также учесть шунтирующий сопротивление RSh, влючений параллельно барьерном слоя, и последовательный сопротивление объема полупроводника RS и контактов (рисунок 3). В этом случае ток в опорi нагрузки
I = IK — ISh — IL (1.6)
а выражение ВАХ принимает вид
(1.7)
Общийвид ВАХ для разных значений RS, i RSh изображены на рис.2. Из рисунка видно, что шунтирующий i последовательный опоры ухудшают ВАХ. При этом шунтирующий сопротивление способствует на форму ВАХ меньше, чем последовательный сопротивление.
Запишем выражение для Iкз
(1.8)
а значение Vхх отражается формулой
(1.9)
В этом случаекак величина Vхх, так i величина Iкз обусловленные параметрами ВАХ: n, IS, а также величиной опорiв RS и RSh. Так, например, ток Iкз возрастает для меньших значений RS и большего значений RSh. Величина Vхх растет при росте RSh.
(1.10)
где R (hv) — доля фотонов, которые отражаются от поверхности, Nc (hv)- Плотность фотонов в единичном интервале энергии, которые падают на единицу поверхности СЭ в единицу времени, Q (hv) спектральный отзыв или эффективность сбора фотоносiив заряда. Идеальный СЕ характеризуется Q = 1 для hv (Еg и Q = 0 для hv
Страница: [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7]
версия для печати
Читайте также:
— Архаизмы и старославянского `янизмы и их моделирующая роль в экспрессионистической стилевой структуре" палимпсестов "В. Стуса
— Особенности оптического поглощения сплавов Cu2Se - HgSe - GeSe2
— Деятельность коммерческого банка
— Конкурентоспособность предприятия
— Транзисторы
|