Расчет вольтамперной характеристики солнечного элемента при врахуваннi изменения поверхностной рекомбiнацiи с приложенным напряжением
Страница: [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7]
E00 = eh (пNd / Emеф) 1 / 2
Для омiчного контакта на тильнiй стороне формулы [5.7] будут при соответствующей замене Nd на Na i Vn на Vp.
Плотность тока pn перехода принималась равной:
I2 = is2 (1-e-(eV2/KT)) (8)
Где Is определяется выражением (2) при Sh, w = Sh, w0.
Расчет производится при следуя параметраммодели 105см / с.
Особенности омiчних контактов изменялись. Омiчний контакт на фронтальнiй стороне характеризуется слабым запорно изгибом зон с? 01 = 0,2:0,6 эВ. Особенности омiчного контактана тильнiй стороне изменялись от антизапiрного изгиба зон до запорного с? 03 = 0,05:0,4 эВ; изменялась также концентрация легирующих примесей с 1016 до 1018см-3 (последнее значение может быть при образовании или BSF слоя). Принималось также, что а1/а2 = 0,1; А3 = А2.
Расчетные ВАХ при различных параметрах омiчного контакта на фронтальнiй i тыловой сторонепоказаны на (рис.1). Видно что части ВАХ с n> 2 наблюдаются на большем интервале напряжения. Чем больший омiчний контакт (большая высота потенцiального барьера? 01 или? 03), с уменьшением потенцiального барьера на омiчному контакте этот участок или значительно уменьшается или исчезает совсем (рис. 1.в). Если на тыльной контакте реалiзувався антизапiрний изгибзон, или большой уровень пiдлегування, то участок с n> 2 совсем не наблюдается (рис. 3).
Рис. 6
Рис. 7
Рис. 8
Рис. 9
Рис. 10
Рис. 11
Рис. 12
Рис. 13
Рис. 14
Рис. 15
Рис. 16
Рис. 17
Рис. 18
Рис. 19
Страница: [1] [2] [3] [4] [5] [6] [7]
версия для печати
Читайте также:
— Выступление прокурора. Обоснование предложений о мере наказания. Гражданский иск
— Информационная система учета и анализа расчетов с поставщиками и подрядчиками
— Мотивация как системное качество личности
— Сен-Симон, сенсимонисти и происхождение коллективизма
— Реформа оплаты труда cтимулюючого типа в Украине
|